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236-237章:上马光刻机?(4000字)

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  光刻机?

阿斯麦尔?

这两个词语两女都并不陌生,反而都很熟悉。

随着半导体加工制程工艺的发展,手机芯片的制程不断进步,从最初的0.5μm、0.35μm,一路发展到十位数的nm时代。

到了2016年,由于高怀钧的时空乱入,现在的进度相比较他上一世快了很多,16纳米制程工艺已经成为手机处理器的标配。

然而现在高瓴芯片厂,不要说最先进的16纳米了,就算是28纳米都造不出来!

现在勉勉强强可以造出来32纳米的芯片出来。

而这也就是高瓴用一些低端产品养出来的结果。

不过现在最先进的EUV以及次先进的DUV都不卖给高瓴,其实就能够看出很多门道出来。

现在华国的华芯科技,华润微,鹏芯微、积塔半导体等除了最先进的EUV无法订购以外,普通的DUV基本只要定就可以卖!

而被限制出口给高瓴的2050i,2100i基本上可以视作当前最先进的一批DUV光刻机型号,广泛应用于40nm以下的制程产能中,对应28nm、以及未来会涉及到的14nm、10nm、7nm四个主要制程节点。

虽然这个没有任何明文上的规定,但是现在就算是高怀钧冒着被滞留下来的危险亲自跑到贺兰一趟,依然搞不定2050i以及2100i,那就足够说明了很多的问题!

在从贺兰回华国的路上,他知道,按照西方运转效率的速度,高瓴其实已经被盯上很久了。

因此他马不停蹄地立刻找到了华国工信部的相关领导,高瓴可以作为初始启动公司,使用预研的国产光刻机产品!

工信部相关领导听了,自然是大喜!

配合度可以说是极高,很快就达成了协议。

其实华国已经启动了02专项中的28纳米的光刻机的项目,原计划于2020年12月完成验收,不过由于技术的封锁,和核心的零部件无法量产等种种因素,这一时间点显然已经向后推延了。

现在时间点都来到了2017年1月了,进度都没有来到一半。

不过这些种种都不是关键的。

工程板块的一切难题,其实都不是难题。

关键点还是在于没有市场!

现在有成熟的厂商阿斯麦尔,成熟的替补厂商岛国的尼康。

就这样的平替方案,华国国内不管是华


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