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第845章【新城微电子半导体】

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700亿元,在半导体行业板块上来就给到700亿的估值是非常罕见的,此前就没有过。

而且,眼下板块内超过500亿市值的半导体公司都是只手可数,这在一定程度上也反应了国产半导体的窘境。

方鸿瞅了眼新微半导体的分时盘面,复牌首日不设涨跌幅限制,盘中股价最高冲到了59元价位,涨幅超+114%,市值规模飙升到了1600亿之巨,直接跃升成为当前半导体板块市值第一股。

不过这会儿已经回落下来了,目前的股价维持在了40元价位附近震荡,对应的市值规模大约1000亿左右,最终收盘也在40元价位上方结束。

……

到了第二天一早,方鸿起来瞅了瞅早间资讯,看到了一条与光刻机,乃至和新微半导体设备公司有关的新闻。

ASML公司总裁彼得在媒体上公开声称:华国企业自研光刻机的行为,是在破坏全球芯片产业链……

“呵呵……”

方鸿看到这条新闻不禁笑了,自顾自地说道:“看来,多少还是有点急眼了啊,急眼就对了。”

国产光刻机对标世界最先进水平其实还有很长的一段距离要走的,可是今年上半年以来,大基金的出现让国际上的那些厂商感觉到了“不对味儿”,他们一开始就尝试要渗透、孵化大基金的管理层。

可他们并没有意识到,这会儿的大基金管理层团队虽然明面上和群星资本没什么关系,但实际上都是方鸿派过去的人,而结果就是他们发现渗透、孵化这一招收效甚微。

现在大基金的前都在落地到实处,比如这主攻光刻机的新微半导体就拿了不少钱,而且昨天借壳上市又向资本市场要了105个亿,几乎提供了花不完的钱。

拿了那么多的钱,基本都砸到研发项目里。

目前新微半导体同时在搞三代光刻机,因为光刻机的研发生产并不需要由低到高、循序渐进,是可以平行研发的,所以新微半导体直接起了三个团队并行研发。

这三个团队分别攻关第四代ArF光刻机,第五代ArFi光刻机,以及第六代极紫外光EUV光刻机。

第四代的ArF光刻机与第三代KrF原理一样,但光源升级,采用193nm光源的光刻机,这两种称之为DUV光刻机。

而第五代ArFi光刻机,采用的也是193nm光源,但这种又与ArF不一样,之前所有的光刻机其介质采用的是空气,但到了ArFi光刻机时,采


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